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传统炉退火相关论文
玻璃衬底上中温制备多晶硅薄膜的量子态现象
用PECVD法直接沉积的非晶硅(a-Si:H)薄膜用传统炉在中温退火,然后用拉曼光谱、XRD和SEM分析,发现晶粒大小随退火温度和退火时间呈现量子......
期刊
PECVD法
非晶硅薄膜
传统炉退火
量子态
晶粒大小
PECVD a-Si : H film conventional furnace annealing
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