俄歇参数相关论文
通过精确的测量发现，分子束外延（ Ｍ Ｂ Ｅ） 生长的Ⅱ－ Ⅵ族三元合金碲硫锌（ Ｚｎ Ｓ１ － ｘ Ｔｅ ｘ）（０ ≤ｘ ≤１） 半导体单晶薄膜中 Ｚｎ 和 Ｔｅ 修正的俄歇参数α′随 ｘ 增......
本文报道了俄歇参数法用于SiO_2/Si界面层硅过渡态的研究。使用一种新的AlK_α-AgL_α混合X射线激发源,获得了界面层上Si_2P,Si KL......
简要介绍几种俄歇参数定义以及俄歇参数图中涉及的原子外部弛豫能和俄歇双电离体系终态能，最后评述它们的应用。
The definitions ......
氧化物和氧化物薄膜材料具有非常广泛的应用，比如应用在抗腐蚀、抗摩擦和磁信息存储等方面，而金属与氧化物的界面和金属在氧化物表面......
简要介绍X射线诱导俄歇电子能谱（XAES）用于化学分析的一般性理论。XAES可与X射线光电子能谱（XPS）一起用于元素化学态分析。但是XAES分......
研究了ＸＰＳ诱导的ＣｅＭ５Ｎ４５Ｎ４５俄歇峰，由于其终态空穴处于芯能级，俄歇峰有较好的分辨率，从ＣｅＭ５Ｎ４５Ｎ４５的俄歇峰可获得中心离子Ｃｅ的电子云密度等信息，发现其俄歇参数与......
简要介绍了几种俄歇参数定义以及俄歇参数图中涉及的原子外部驰豫能和俄歇双电离体系终态能，最后评述它们的应用。......
介绍了采用X射线光电子谱(XPS)等技术研究脉冲激光沉积在Ni、Mo、C、NaCl(100)表面的Cu、Au原子团簇的电子状态；结合Cu2p3/2X射线光......
通过精确的测量发现，分子束外延（ Ｍ Ｂ Ｅ） 生长的Ⅱ－ Ⅵ族三元合金碲硫锌（ Ｚｎ Ｓ１ － ｘ Ｔｅ ｘ）（０ ≤ｘ ≤１） 半导体单晶薄膜中 Ｚｎ 和 Ｔｅ 修正的俄歇参数α′随 ｘ 增......
本文报道了俄歇参数法用于ＳｉＯ２／Ｓｉ界面层硅过渡态的研究。使用一种新的ＡｌＫα－ＡｇＬα混合Ｘ射线激发源，获得了界面层上Ｓｉ２Ｐ，ＳｉＫＬＬ谱峰。给出了从表面到界面硅的化......
利用氩离子溅射对熔痕样品进行了深度刻蚀,同时利用Cu的俄歇谱线和计算的俄歇参数值,对不同环境形成的铜导线短路痕迹的物相及元素......
