以微波激励氙（Ｘｅ） 发射的真空紫外光（ＶＵＶ） 作光源，乙炔（Ｃ２Ｈ２） 作反应气体，采用直接光化学汽相淀积（ＣＶＤ） 工艺，在硅（Ｓｉ） 、钼（ Ｍｏ） 及玻璃衬底上，１２０ ℃的低温下进行了类......

由于一些半导体器件要求在低温条件下进行薄膜淀积，近年来出现了一些新的低温薄膜淀积设备。介绍新近研制的一种利用紫外光能量辅助......