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光阻残余物相关论文
0.11μm DRAM技术中深沟壑底部光阻残余物去除工艺的改善研究
在半导体湿法清洗中,硫酸与双氧水混合体系(简称SPM)常用以光阻的去除工艺和清洗,是比较成熟的工艺,然而实践中发现SPM对光阻的去......
学位
硫酸
双氧水
过氧化硫酸
光阻残余物
清洗
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