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化学机械交互作用相关论文
采用超声雾化液化学机械抛光(CMP)氧化锆陶瓷的材料去除特性
采用浸泡腐蚀法研究了雾化抛光液与钇稳定氧化锆陶瓷(Y-TZP)之间的化学反应对其表面硬度的影响,通过雾化施液CMP抛光工艺分别在纯......
期刊
Y-TZP
材料去除特性
雾化施液
软质层
化学机械交互作用
Y-TZP ceramicsMRRAtomized slurrySoft layerChemica
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