半光刻技术相关硕士博士期刊学术论文 - 信丰网

半光刻技术相关论文

TFT-LCD四次光刻工艺中的光刻胶剩余量

在四次光刻工艺中,半光刻制程中光刻胶膜残量的控制,对于TFT沟道形貌以及电学特性至关重要。因此,本文研究了在氧化物TFT-LCD四次......

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薄膜晶体管四次光刻半光刻技术光刻胶膜残量均一性 thin film transistor four mask halftone photoresist

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