原子层沉积(ALD)相关论文
采用原子层沉积(ALD)技术在200℃下制备了不同厚度的氧化铝薄膜,并利用X射线衍射仪(XRD)、扫描电子显微镜(SEM)、能量色散光谱仪(EDS)和原子......
采用原子层沉积技术及退火处理工艺制备高阻氧化锌铝(AZO)纳米叠层薄膜。通过原子力显微镜、X射线衍射仪、高阻测试仪对不同退火工艺......
采用热型原子层沉积(ALD)技术在单晶硅基底上成功制备了单质钨薄膜。利用场发射扫描电子显微镜(FESEM)、掠入射X射线衍射仪(GIXRD)、X射......
期刊
有机半导体光电器件在基础研究和工业应用方面进展迅速,相关方向已经成为一个较为成熟的新兴领域.然而,这类器件中的关键有机材料......