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去损伤相关论文

反应离子刻蚀制备的多晶黑硅损伤去除与钝化性能研究

结合SiO_2纳米球掩模和反应离子刻蚀技术制备了结构呈周期性排列的多晶黑硅,利用低浓度的NaOH溶液去除由荷能离子撞击所带来的损伤......

期刊

反应离子刻蚀表面钝化去损伤表面复合周期性排列纳米球少子快速热退火硅太阳电池可见光范围

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