平面抛光相关论文
利用磁流变效应即效微磨头对光学玻璃进行了抛光试验,研究了磁感应强度、加工问隙、工具转速、加工时间等参数对工件表面粗糙度值......
中国科学院物理究所工厂的青年钳工历焕阁根据该厂品种多、单件小批的生产特点积极钻研设计了一种台式万能机床,在工人周正芳、陈......
(?)0.25毫米微孔纺丝板是化学纤维设备上不可缺少的关键件,这个零件的微孔的精度和光洁度都很高(见图1)。我厂的反动“技术权威”......
一、引言 精密金属线纹尺(图1)有工作基准线纹尺和标准线纹尺两种。前者用于传递或检查长度单位量值,也用于测量精密零件和精密机......
日本丰田工机公司研制成功采用浮动抛光进行超精密加工的SP46型超精密平面抛光机,现简介如下。一、平面抛光机的概要1.浮动抛光加......
本文分析了大平面机械抛光运动过程,以Preston假设为基础,建立了大平面机械抛光均匀性的仿真模型,研究工艺参数对磨抛均匀性和效率......
光学工艺──平面抛光和检验李志超上一讲所述磨砂完成之后即可进入下一步抛光工序。现行抛光工艺是牛顿发明的，要点是利用沥青盘和......
本文描述了一台自制大平面抛光机的结构和原理。它可以用于任何工件的抛光,机器简单灵活、使用方便,工件大小可以不受限制。
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本文介绍了异型铝件化学抛光用抛光剂ＰＧ－ｌ的合成及其工艺，确定了最佳生产工艺，小试产品通过应用试验表明其性能指标已接近进口水平。
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以往在管焊缝探伤中,工作人员是直接将探头的底平面磨成与所测管件曲率相同的圆弧。这样不仅损伤探头,也严重影响了探头的正常工作......
定偏心平面抛光中，工件表面各区域材料的均匀去除问题涉及工件加工后的面形。本文从理论上讨论了锡磨盘与工件的转速比、偏心距及转......
在10厘米长2厘米宽的YZ LiNbO_3基片上用四个多带反射轨迹变换器把45厘米长的延迟通道折叠成五条相邻的轨迹。在带宽15兆赫(受换能......
简述超精密加工技术现状 ,介绍超精密平面抛光机的工作原理 ,分析达到纳米级超精密抛光的技术难点 ,并阐述了纳米级超精密抛光智能......
随着材料科学的飞速发展及光机电一体化技术的进步，各种功能陶瓷材料在电子计算机、激光、通讯、计时等领域得到了越来越广泛的应用......
基于磁流变效应和集群原理提出集群磁流变效应平面抛光技术,对磁极排布方式、端面形状及其尺寸的磁场特性进行静磁场有限元分析优......
基于Preston方程，分析了磨削速度、磨削时间与磨削量的函数关系。在大平面机械抛光的运动学分析基础上，综合磨削速度、磨削时间共同......
Contact Pressure Intensity Distribution and Its Effects on Workpiece Flatness Error in Plane Polishi
In order to find out the contact pressure intensity distribution and its effects on the workepiece flatness error in pla......
介绍了一种新型的定偏心式的锡磨盘的超精密平面抛光工艺。在建立了平面材料去除和抛光轨迹的数学模型的基础上，对微晶玻璃进行了工......
研究设计了一种基于圆柱滚子平面推力轴承的新型桌面级精密平面抛光机转台。阐述了转台的总体结构设计,对偏载情况下抛光盘支撑结......
抛光是获得超精密表面的重要手段。在平面抛光过程中,抛光垫类型对应不同的抛光工艺参数,抛光垫的修整精度直接影响工件面形精度,......
基于集群磁流变效应超光滑平面抛光理论及研制的试验装置，对单晶SiC基片进行了平面抛光试验研究。研究结果表明，金刚石磨料对单晶SiC......
修正环型抛光机用于超精密平面抛光 ,并对沥青抛光进行了运动学分析。基于得到的方程式 ,发现在相同条件下 ,计算出的抛光量和平面......
基于磁流变效应和集群原理提出集群磁流变效应平面抛光技术，对磁极排布方式、端面形状及其尺寸的磁场特性进行静磁场有限元分析优化......
介绍了平面研磨抛光轨迹均匀性的研究方法,详细阐述了双轴式(包括定偏心式和不定偏心式)、直线式、摇摆式、计算机控制小工具式单......
基于动态磁场集群磁流变平面抛光的加工机理以及动态磁场作用机理,对单晶硅基片进行动态磁场集群磁流变抛光试验研究。结果表明：动......
