形状记忆薄膜相关论文
TiNi形状记忆薄膜光刻工艺是此类MEMS器件制作的关键技术之一.研究了剥离工艺(lift-off)用于TiNi薄膜图形化的可行性,并首次利用溅......
采用直流磁控溅射在GCr15基体上沉积TiNi形状记忆薄膜，550℃真空退火1 h得到超弹性较好的TiNi晶态薄膜。比较溅射态薄膜和真空退火......
德国波鸿大学和慕尼黑大学的科学家小组使用磁控溅射技术在室温下制备了钛-钽合金驱动器薄膜。高温形状记忆合金（HTSMAs）是指能够在......
Microfabrication and Performance of Annealed NiTi Shape Memory Thin Films by Sputtering for Microdev
The microfabrication and performance NiTi shape memory thin films for microdevice applications were studied by microfabr......
用磁控溅射法制备了MiTi非晶薄膜.薄膜无形状记忆效应.研究了经不同晶化热处理后的形状记忆效应,获得的最佳晶化热处理条件为500～70......
简述了TiNi 形状记忆合金(SMA)的研究与应用进展,指出了今后的发展方向.重点介绍了TiNi细丝、微管、薄板、薄带、薄膜的开发思想与......
NiTi形状记忆合金薄膜具有形状记忆效应,极有希望用于制造高技术领域微电子机械系统中的微型激发器.NiTi形状记忆合金薄膜在制备和......
