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反应离子刻蚀剥层的微分霍耳法表征超浅pn结
用反应离子刻蚀(RIE)剥层的微分霍耳法(DHE)对等离子体掺杂、离子注入制备的Si超浅p+n结进行了电学表征.通过对超浅p+n结样品RIE剥层的DH......
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半导体电学表征
微分霍耳
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