掺氮类金刚石薄膜相关论文
类金刚石(a-C:H)薄膜具有极高的电阻率、电绝缘强度和热导率,良好的光学性能,特别是红外和微波频段的高透过率,因此,具有极广泛的......
本文采用直流磁控溅射方法,以Ar和N_2为工作气体、以石墨为溅射靶材,在玻璃基底上制备了类金刚石薄膜和掺氮类金刚石薄膜。采用原......
采用射频磁控反应溅射法,Ar气为溅射气体,N2气为反应气体,用高纯石墨靶在Si(100)片上制备了掺氮类金刚石薄膜,采用X射线光电子能谱......
该文从挂篮荷载计算、施工流程、支座及临时固结施工、挂篮安装及试验、合拢段施工、模板制作安装、钢筋安装、混凝土的浇筑及养生......
采用俄歇电子能谱、原子力显微镜、拉曼散射分析、傅里叶红外光谱和红外椭圆偏振光谱等设备 ,对射频等离子增强化学气相沉积法制备......
采用俄歇电子能谱、原子力显微镜、拉曼散射分析、傅里叶红外光谱和红外椭圆偏振光谱等设备，对射频等离子增强化学气相沉积法制备的......
利用空心阴极放电在玻璃基底表面沉积掺氮类金刚石(DLC)薄膜。拉曼光谱(Raman)分析表明,所制备的碳膜具有典型的类金刚石结构。扫......
采用激光拉曼光谱、轮廓仪、色差仪、微纳米力学综合测试系统、摩擦磨损试验机等设备,对霍尔等离子体源辅助中频非平衡磁控溅射制......
用射频等离子体化学气相沉积法（RFCVD）和CH4、N2与Ar组成的混合气体制备掺氮类金刚石薄膜（a－C:H:N）。用原子力显微镜（AFM），俄歇电子能谱（AES......
采用射频等离子体增强化学气相沉积(RF—PECVD)法携带N2或NH3制备掺氮的类金刚石(DLC：N)薄膜，对不同掺杂方法得到DLC：N薄膜进行电化学......
本文利用射频磁控溅射法，以高纯N2、Ar混合气体为溅射气体，用高纯石墨靶在Si（100）基片上制备出掺氮的类金刚石薄膜（DIE：N）。拉曼光谱（Raman......
研究了不同含氮量的类金刚石薄膜(DLC∶ N)的导电性能,发现随着氮含量的增加,薄膜的电导率增加较缓,当氮含量达到一定值(12.8at%)......
掺氮类金刚石薄膜（简称DLC：N）中含有一定数量的sp3C—N键，使其成为一种最新型的、具备氮化钛的化学稳定性和热稳定性等优点的理想超硬......
为探讨低氮掺杂对含氢类金刚石组织结构和力学性能的影响.采用非平衡磁控溅射和等离子增强化学气相沉积(PECVD)复合技术,在316不锈......
对含氮的类金刚石薄膜的导电性能进行了研究,发现随着氮含量的增加,沉积薄膜的电导率增加较缓,且当氮含量达到一定值后,氮含量继续......
掺氮类金刚石薄膜在生物应用中很有前景,研究其摩擦和腐蚀的协同作用有很大的实际意义.论文使用高功率脉冲磁控溅射(high-power im......
