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研究盲源信号分离算法,针对基于标准粒子群独立分量分析算法的盲源分离存在收敛速度慢、易于陷入局部最优值的问题,提出了一种带有......
极紫外(EUV)(λ=13.5nm)光刻技术是世界范围内最被看好的实现22nm最小刻线的下一代光刻技术。其光刻掩膜版在制作过程中参入纳米量......