氧杂碳化硅相关硕士博士期刊学术论文 - 信丰网

氧杂碳化硅相关论文

等离子体与氧杂碳化硅低介电常数隔离膜的相互作用

为了进一步降低高级器件堆叠中铜连接线的电容延迟性,我们开发了一种先进的氧杂碳化硅隔离膜(O-SiC),其介电常数为3.5,能非常有效......

期刊

氧杂碳化硅等离子体灰化低介电材料等离子体引起的低介电薄膜损伤

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