浅沟槽刻蚀相关硕士博士期刊学术论文 - 信丰网

浅沟槽刻蚀相关论文

55nm低功耗产品漏电流优化的机理研究及解决方案

半导体技术随着摩尔定律,工艺尺寸逐渐缩小,浅沟槽形貌对增加低功耗产品器件间的隔离效果,降低漏电流的作用越来越敏感[1].提出一......

期刊

集成电路制造浅沟槽刻蚀硬掩膜工作区漏电流 POLYMER 聚合物 STI hard mask AA step leakage current p

看过本文同时还关注