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深反应离子相关论文
用于MEMS器件制造的深反应离子刻蚀设备
深反应离子刻蚀(DRIE)设备,主要应用于MEMS器件制造中Si材料的深槽刻蚀.介绍了一种用于硅材料的高深宽比反应离子刻蚀设备,采用ICP技术,......
期刊
微电子机械系统
深反应离子
刻蚀
控制
设备
MEMS
deep reactive ion
etching
control
device
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