物理气相沉积(PVD)相关论文
超音速火焰（HVOF）喷涂技术制备的Cr3C2-NiCr涂层具有良好的耐磨损和耐腐蚀性能,但在高温及盐类腐蚀介质环境下,硬度低、孔隙率高等问......
涂层防腐是一种防止金属腐蚀的应用最普遍、最有效的方法.在本文,针对物理气相沉积在耐腐蚀涂层中的运用,笔者提出从化学成分、涂......
期刊
介绍了各种精密异型复合触点带材的生产工艺及使用材料,指出了其优缺点,并对异型复合触点带材的开发前景及模式进行了展望。......
用诱导型等离子体辅助磁控溅射装置在Si(100)表面低温沉积TiN膜,研究了高密度低能量(≈20 eV)离子束辅照对溅射镀TiN膜生长、结构......
材料的磨损、腐蚀及其它环境损伤是机械工业面临的基本问题之一，近年来，由离子参与和等离子体增强的各种气相沉积技术为解决这一问题......
红外减反射保护膜具有特定的厚度要求，如能进一步减小无氢类金刚石膜（DLC）的光学吸收，就能使其在较大厚度时不过分损失光通量而得以广......
文章综述了金属间化合物Fe3Si制备方法的研究现状,详细介绍了Fe3Si的几种常用制备方法,如分子束外延（MBE）、脉冲激光沉积（PLD）、物理气......
本文介绍了物理气相沉积(PVD)真空镀膜设备的关键零部件设计计算、设计参数的选择、磁场对工艺的影响等;其中重点进行了真空腔体的......
为了改善复杂工况条件下奥氏体不锈钢球阀表面的耐磨性,采用离子氮化技术和物理气相沉积(PVD)技术分别在奥氏体不锈钢表面制备渗N......
利用物理气相沉积方法,在Si衬底上制备了CdTe纳米线和纳米晶.X射线衍射(XRD)和扫描电子显微镜(SEM)研究表明所得产物为四方结构CdT......
期刊
采用物理气相沉积(PVD)技术研制了钝化太安炸药薄膜,对薄膜的微观结构和颗粒粒度进行了分析,对颗粒粒度与薄膜爆轰波稳定传播临界......
随着集成电路的发展,摩尔定律一直驱动着集成电路特征尺寸逐渐减小。集成电路的基本单元即金属-氧化物-半导体场效应晶体管(MOSFET......
研究综合采用了电子枪等离子增强、非平衡磁控溅射和多弧离子镀3种物理气相沉积(PVD)技术,在高速钢麻花钻上沉积TiAlN单层涂层。对......
期刊
分别在400、440、480℃下对316奥氏体不锈钢进行12 h的渗氮处理,再对渗氮后的试样进行物理气相沉积(PVD)镀CrN薄膜.采用扫描电镜(S......
