本文在分析国内外的研究现状和已有的研究成果的基础上，开展了研究工作，所取得的主要成果包括:　　使用矢量瑞利-索末菲衍射积分公式......

极紫外光刻(Extreme Ultraviolet Lithography, EUVL)是适应于27nm~11nm节点的数代超大规模集成电路制造的光刻工艺，它采用13.5nm的......