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微孔圆度相关论文
相移点衍射干涉仪深亚纳米精度参考波前研究
极紫外光刻(Extreme Ultraviolet Lithography, EUVL)是适应于27nm~11nm节点的数代超大规模集成电路制造的光刻工艺,它采用13.5nm的......
学位
极紫外光刻
点衍射干涉仪
矢量瑞利-索末菲衍射积分公式
时域有限差分法
微孔衍射
微孔圆度
衍射参考波前质量
杨氏双孔干涉实验
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