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0.1 um光刻机硅片台在扫描曝光过程中要求纳米级的轨迹精度,采用直线电机承担大行程粗动控制和洛沦磁电机承担高精度微动控制的复......
为降低硅片台在曝光扫描过程中的加减速时间以及提高扫描速度的平稳性,设计了5阶对称S曲线。设定加速度三阶导数为恒定值,通过向上......
描述一种应用于集成电路制造的超精密硅片台系统及其运动控制。介绍了超精密硅片台系统配置及其主从控制原理，结合粗动台和微动台两......
分析激光测量系统进行硅片台位置测量的工作原理,并针对系统特点,研究影响测量精度的误差因素,包括:阿贝与余弦误差、激光波长的影......
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步进扫描投影光刻机是高端IC制造中最重要和最复杂的关键设备之一,而硅片台则是光刻机的核心单元之一,其定位精度、速度和加速度要......
