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等离子体辅助化学相关论文

工模具表面陶瓷化PCVD技术开发成功

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期刊

工模具表面陶瓷化PCVD技术中国等离子体辅助化学工业设备制造技术

PCVD在狭缝内壁沉积Ti-Si-N薄膜的研究

用脉冲直流等离子体辅助化学气相沉积(PCVD)设备在狭缝的侧壁上沉积Ti-Si-N薄膜.经微观物相分析发现,在狭缝的侧壁上随着测试深度......

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薄膜厚度狭缝等离子体辅助化学脉冲沉积物相分析元素 PCVD 显微硬度仪相组成 PCVD Ti-Si-N Complex-shaped surfac

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