等离子损伤相关硕士博士期刊学术论文 - 信丰网

等离子损伤相关论文

MOS器件中的等离子损伤

随着栅极氧化膜的减薄,等离子对氧化膜的损伤(Plasma Process Induced Damage,P2ID)越来越受到重视.它可以使MOS器件的各种电学参......

期刊

MOS器件等离子损伤氧化膜表征方法 plasma damage MOSFET

PECVD淀积介质层对MOSFET性能的影响

通过对nMOS器件随天线比增加的阈值电压漂移、跨导变化，MOS电容在TDDB测试后的QBD退化分析来评估在RIE（Reactive Ion Etching）金属前P......

期刊

等离子损伤保护介质层 PECVD

看过本文同时还关注