【摘 要】
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通过对nMOS器件随天线比增加的阈值电压漂移、跨导变化，MOS电容在TDDB测试后的QBD退化分析来评估在RIE（Reactive Ion Etching）金属前PECVD-TEOS预淀积保护介质层的保护作用，实验
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通过对nMOS器件随天线比增加的阈值电压漂移、跨导变化，MOS电容在TDDB测试后的QBD退化分析来评估在RIE（Reactive Ion Etching）金属前PECVD-TEOS预淀积保护介质层的保护作用，实验结果表明此介质层没有起到足够的保护作用，反而会由于更长的等离子体工艺时间产生更严重的损伤问题。传统的电荷在硅片表面积累理论不足以解释此现象，本文从高能电子隧穿作用来分析此性能退化的原因。
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