纳米晶硅薄膜相关论文
纳米晶硅是纳米尺度无定形态的硅晶粒，具备体硅所不具有的新颖光电性能，具有显著的量子限域效应，是发光半导体、光伏发电等领域中的关......
纳米晶硅薄膜是集晶体硅材料和氢化非晶硅薄膜优点于一体，可望广泛应用于薄膜太阳能电池、光存储器、发光二极管和薄膜晶体管等光电......
利用射频等离子体增强化学气相沉积（PECVD）技术低温制备了氢化纳米晶硅（nc-Si：H）薄膜．通过优化沉积参数，得到晶粒尺度小于10nm，晶态体积比......
采用传统的射频等离子体增强化学气相沉积技术。在较高的工作气压130Pa和较高的射频功率70W下，在高于100℃低温下,以0．14nm／s速率制备......
以SiH4与H2为气源，采用射频等离子体增强化学气相沉积技术．在较低的温度（200℃）和较高的压强（230Pa）下，在普通的玻璃衬底上制备出沉积速率......
以SiH4／H2为气源，用PECVD沉积技术，在低温（200℃）、高压下（230Pa）下制备出优质纳米晶硅薄膜。研究氢在高速生长纳米晶硅薄膜材料中的作用......
采用传统的射频等离子体增强化学气相沉积技术，在较高的工作气压130Pa和较高的射频功率70W下，在〉100℃的低温下，以0．14nm／s速率制备出......
采用电感耦合等离子体化学气相沉积技术制备了氢化纳米硅薄膜,利用Raman散射、X射线衍射、红外吸收等技术对不同氢稀释条件下薄膜......
综述了纳米硅薄膜及纳米硅薄膜太阳电池的制备方法、结构特性、光电特性等 ,显示出其有重要的应用前景。迄今为止 ,最好的纳米晶硅......
随着薄膜技术的进步和微纳制造技术的发展,可把薄膜技术、微纳制造技术与硅基太阳能电池结合,形成新型微纳结构的硅基薄膜太阳能电......
以SiH4与H2作为前驱气体,采用射频等离子增强化学气相沉积技术制备了纳米晶硅薄膜.利用Raman散射和红外吸收光谱等技术,对不同氢稀......
采用传统的射频等离子体增强化学气相沉积技术，在较高的工作气压（133～266Pa）下，以0．4nm／s速率制备出优质的氢化纳米晶硅薄膜。薄膜的晶化......
以SiH4与H2为气源,采用射频等离子体增强化学气相沉积技术,在较高的压强(230Pa)下,研究氢稀释率对纳米晶硅薄膜的生长速率和晶化特......
以SiCl4和H2为气源，用等离子体增强化学气相沉积技术，在300℃的低温下，研究不同的氢流量对纳米晶硅薄膜生长特性的影响。实验发现，氢对......
