纳米铜薄膜相关论文
以碳纤维毡为基材,优化了采用磁控溅射技术在其表面沉积纳米铜薄膜的工艺参数。运用正交试验分析方法,选取沉积时间、溅射功率和工......
本文从激光冲击强化提高金属表层综合机械性能的原理出发,对纳米Cu薄膜进行了激光冲击强化的试验研究,并对激光冲击处理后的Cu薄膜......
铜作为金属材料,因其具有良好的化学性质和导电特性,在微电子工业生产中扮演着越来越重要的角色。Cu薄膜的微观结构,如晶体学取向......
化学修饰电极是当前分析电化学十分活跃的研究领域之一。金属纳米修饰电极由于其制备方法简单、简便、电极使用寿命长的特点,且具......
利用磁控溅射法制备厚度100 nm的铜薄膜,使用800 nm泵浦和400 nm探测瞬态反射技术,测量铜薄膜的时间分辨反射率,分析铜薄膜在飞秒......
应用激光微冲击强化处理技术,对不同磁控溅射参数下制备的纳米铜薄膜进行了强化处理,并对其表面形貌、硬度、弹性模量进行了测试和......
