超低介电常数介质相关硕士博士期刊学术论文 - 信丰网

超低介电常数介质相关论文

碱性阻挡层抛光液中ULK介质抛光性能的研究

研究了化学机械抛光(CMP)过程中抛光液的SiO_(2)磨料质量分数和表面活性剂对多孔SiOCH薄膜(ULK介质)介电常数(k)及抛光速率的影响......

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超低介电常数介质化学机械抛光去除速率碱性抛光液 ultralow-k dielectric chemical mechanical planarizati

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