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边墙技术相关论文
轻掺杂漏LDD MOSFET的工艺及特性
对LDD MOSFET的两种形成技术——侧向刻蚀和边墙技术进行了分析和比较,证明了边墙技术对控制轻掺杂区域长度具有更高的精确性;同时......
期刊
轻掺杂漏金属-氧化物-半导体场效应晶体管
边墙技术
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