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钨掺杂氧化镍相关论文
W掺杂NiOx薄膜的制备及全固态电致变色器件的性能
采用直流反应磁控溅射技术,使用原子比4:1的镍钨合金靶,在不同氩氧比条件下制备了W掺杂的NiOx薄膜。利用X射线衍射仪(XRD),扫描电......
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钨掺杂氧化镍
电致变色器件
thin filmsmagnetron sputteringW-doped NiOxelectrochromic d
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