【摘 要】
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采用直流反应磁控溅射技术,使用原子比4:1的镍钨合金靶,在不同氩氧比条件下制备了W掺杂的NiOx薄膜。利用X射线衍射仪(XRD),扫描电子显微镜(SEM),原子力显微镜(AFM),分光光度
【基金项目】
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国家重点研发资助项目(2016YFB0303901),国家科技支撑计划课题资助项目(2015BAA02B01)
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采用直流反应磁控溅射技术,使用原子比4:1的镍钨合金靶,在不同氩氧比条件下制备了W掺杂的NiOx薄膜。利用X射线衍射仪(XRD),扫描电子显微镜(SEM),原子力显微镜(AFM),分光光度计和光谱椭圆偏振仪(SE)对薄膜进行分析和表征,研究溅射过程中氧分压对薄膜形貌、结构和光学性能的影响。研究结果表明:颗粒之间相互接触在薄膜表面形成片状结构;随着氧分压上升,薄膜中的颗粒尺寸减小,结晶程度下降,衍射峰的位置向小角度方向移动;光学透过率和光学带隙随氧分压上升而下降,而折射率和消光系数则随氧分压上升而增大。最优
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