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基于光阻涂覆后硅衬底晶圆边缘“风旋”缺陷的研究
涂胶工艺是光刻技术中重要的步骤,本文介绍了一种基于12inch硅衬底晶圆涂覆光刻胶改善其边缘"风旋"问题的方法,结合实验系统考察了......
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