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高密度等离子刻蚀机相关论文
GaN刻蚀表面上GaCl<,x>的滞留研究
近几年来,GaN以代表的新一代Ⅲ-Ⅵ族氮化物半导体材料发展迅猛.GaN具有禁带宽度大,热稳定性及化学稳定性好,电子极限漂移速度大等......
会议
高密度等离子刻蚀机
化学稳定性
热稳定性
干法刻蚀技术
化物半导体
应用前景
湿法腐蚀
漂移速度
禁带宽度
高速器件
材料发展
大功率
气体
面具
电子
表面
2008信息北京十大应用成果评选先进信息化应用企业
北方微电子rn北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司是为承担国家“十五”863重大专项--“100nm高密度等离子刻蚀机”于......
期刊
信息化应用
北京大学
应用成果
评选
有限责任公司
微电子
高密度等离子刻蚀机
持续创新能力
市场化模式
高技术企业
重大专项
清华大学
科技集团
工艺研究
中
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