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Al2O3门绝缘子相关论文
非晶硅缓冲层在具有Al2O3门绝缘子的多晶SiGeTFT中的作用
SiGe合金具有较高的载流子迁移率与较低的结晶温度,比Si更适合用作薄膜晶体管(TFT)。最近,我们已证实,利用Al2O3作多晶SiGeTFT的门绝缘子,可使界面得到显著改善......
期刊
缓冲层
Al2O3门绝缘子
多晶SiGeTFT
薄膜晶体管
SiGeThin film transistorsBuffer layerAl2O3
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