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CCl_2F_2O_2相关论文
采用CCl_2F_2/O_2的高深宽比硅槽的刻蚀
本文通过实验和对样品上钝化层成分的分析,提出了CCl2F2/O2混合气体对单晶硅的各向异性刻蚀机理:在一定功率下,CCl2F2离解出大量的CFx粒子和Cl粒子,在前者对......
期刊
CCl_2F_2/O_2
钻蚀
掩膜
钝化层
淀积作用
光刻胶
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反应室
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混合气体
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