为探索用激光离子体共同辅助化学气相沉积过程以实现室温沉积的可能性，设计并制造了一种新型的ＣＶＤ装置，实际了ＳｉＨ４－ＮＨ３－Ｎ２体系制取Ｓｉ３Ｎ４膜的试验。结果表......