CeO2磨料相关论文
氧化铈由于具有独特的物理、化学性质而作为一种重要的抛光材料被广泛研究[1]。大量实践和研究表明,CeO2抛光液对SiO2质材料（集成电......
通过均相沉淀法制各了不同粒径的CeO2超细粉体，并配制成不同氧化剂浓度和pH值的抛光液对GaAs晶片进行化学机械抛光。研究了不同粒径......
用均相沉淀法制备了不同形状和尺寸的CeO2超细粉体,并配制成不同pH值的抛光液对硅片进行化学机械抛光.研究了不同粒径CeO2磨料的抛......
本文就化学机械抛光 （CMP） 用抛光液中CeO2磨料相关技术的全球专利申请及中国专利申请进行了分析, 探讨了CeO2磨料在全球及中国的申......
