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退火温度对IBAD合成Co—Si化合物薄膜结构影响研究
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离子束辅助淀积
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Si衬底上Co薄膜氧化观察
用透射电子显微镜和X射线衍射方法研究Si衬底上的Co薄膜氧化,发现:在550℃以下,薄膜氧化产物是CoO;在900℃再次进行真空热处理,CoO能转变为硅化物,薄膜氧化......
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