Cu底层相关论文
通过多靶射频磁控溅射系统在玻璃基片上制备了SmCo／Cu磁性薄膜．采用控制变量法优化了磁性层溅射工艺参数，制备出了矫顽力高达2400 Oe......
用多靶射频磁控溅射系统在玻璃基片上制备了SmCo磁性薄膜。并采用控制变量法研究了溅射功率、溅射时间以及溅射气压等工艺参数对薄......
为了实现超过1Tbits/in2的磁记录密度,同时保证具有高的信噪比和热稳定性,必须研制具有更高矫顽力的垂直磁记录介质。SmCo系列薄膜......
