室温下，利用射频磁控溅射技术在 p 型硅衬底和玻璃衬底上，不同氧分压下制备了厚度约为200nm 的铟锡锌氧化物(ITZO)薄膜，利用椭圆偏振......

在室温下,采用射频磁控溅射法制备了氧化铟锡锌（ITZO）薄膜作为薄膜晶体管（TFT）的有源层, ITZO薄膜厚度分别为16, 25, 36, 45和55 nm。......