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基于Innovus工具的IR Drop自动化修复
在先进工艺节点下,芯片电源网络的电阻增加和高密度的晶体管同时翻转会在VDD和VSS上产生电压降(IR Drop),导致芯片产生时序问题和......
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基于28nm工艺的芯片时钟树研究
随着工艺的不断发展,芯片集成规模增大,工作频率不断增加,给传统的IC设计带来巨大的挑战。基于UMC 28 nm工艺,采用Innovus工具布局......
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