研究了射频磁控溅射膜（Ｎｉ＿（８１）Ｆｅ＿（１９）＿（１００－ｘ）Ｎｂ＿ｘ的各向异性磁阻效应ＡＭＲ、矫顽力Ｈ＿ｃ、饱和磁化强度４πＭ，和饱和磁化场Ｈ＿ａ。研究其作为磁阻磁头材料和低磁场高灵敏度材料的......