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磁控溅射制备的AlN薄膜的结构、组分及性能分析
采用DC磁控溅射法,分别在P—Si(111)和玻璃基片上沉积AlN薄膜。利用X射线衍射(XRD)、X射线能谱仪(EDS)、原子力显微镜(AFM)、台阶仪\紫外/可见......
期刊
ALN薄膜
溅射电流
XRD
透射率
FTIR
EDS
AlN thin films
Sputtering current
XRD
Transimmiss
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