介绍Ｘ光激光薄膜锗靶的制备工艺，在厚度为９０ｎｍ和ｆｏｒｍｖａｒ膜上，采用磁控溅射技术沉积３０～６０ｎｍ厚的锗膜，对锗膜的应力进行了初步的测试与分析，制得的薄膜经干涉......