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AZ5214光刻胶及像反转特性的实验研究
通过实验了ZA5214光刻胶分别用作正型抗蚀剂和负型抗蚀剂的光刻工艺,给出了抗蚀剂厚度为1μm的最佳光刻工艺参数。介绍了AZ5214像反转特性的实验研......
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AZ5214
光致抗蚀剂
像反转
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