化学机械抛光设备相关论文
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化学机械抛光(CMP)设备广泛应用于光学加工领域,其对抛光轴精度和稳定性要求高。高精度气体静压轴承因具有精度稳定性和保持性高的......
化学机械抛光技术是集成电路制造中的关键技术之一,是唯一可实现全局平坦化的工艺技术。根据集成电路技术节点与CMP的发展之间的对......
