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喷雾处理器相关论文

硅晶片表面污染物去除的关键工艺

硅晶片的清洗通常是在一个“过流(overflow)”清洗槽中进行,其中流过晶片的水流平均速度为1 cm/s,而在晶片表面的速度则为零.清洗......

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