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射频磁控溅射沉积工艺相关论文
衬底温度对射频磁控溅射沉积IMO薄膜性能的影响
采用射频磁控溅射法在超白玻璃衬底上制备掺钼的氧化铟(In203:Mo,IMO)薄膜.衬底温度升高,结晶程度变大.160℃制备的IMO薄膜的载流......
会议
掺钼氧化铟薄膜
射频磁控溅射沉积工艺
温度效应
物理性能
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