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干法释放相关论文

Notching效应在MEMS单步干法制造工艺中的应用

研究了一种基于深反应离子刻蚀（DRIE）中notching效应的MEMS单步干法制造工艺.首先,基于DRIE刻蚀SOI硅片时notching现象产生的机理,设......

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notching效应干法释放绝缘体上硅微机电系统 notching effect dry release silicon on insulator mic

MEMS中的牺牲层技术

MEMS技术作为微电子技术应用的新突破,促进了现代信息技术的发展.牺牲层技术是MEMS应用中的关键,用以实现结构悬空和机械可动.本文......

期刊

微电子机械系统牺牲层多孔硅光刻胶干法释放

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