微波等离子化学气相沉积相关论文
当前量子通讯领域发展日新月异,单光子源是影响通讯安全性的重要因素,然而当下研究的各种单光子源的性能各有优劣。为了探究一种新......
金刚石具有许多优异的特性,比如高热导率、高击穿电压、耐辐射性、低热膨胀系数和良好的化学稳定性,因此被人们认为是下一代半导体......
本文利用催化化学气相沉积法(CCVD)和微波等离子体化学气相沉积法(MPCVD)制备了两种低维纳米结构-碳纳米管和碳纳米带,使用扫描电......
金刚石的成核和生长影响金刚石膜的质量.本文用自制的一种新型的不锈钢谐振腔型微波等离子CVD设备,等离子直径为76mm,均匀的温度分......
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采用微波等离子增强化学气相沉积法在(100)镜面抛光的硅片衬底上实现了金刚石薄片[100]定向织构生长.并用扫描电子显微镜、拉曼散......
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研究了基片预处理和工艺参数对微波 等 离子化学气相沉积金刚石涂层WC-8.0%Co刀具质量的影响， 研究了提高成核密度和沉积 速 率的方......
叙述了应用于微波等离子体化学气相沉积金刚石薄膜工艺中一种新的基体预处理方法,即对Si(100)基体采用纳米金刚石直接喷洒处理方法......
采用微波等离子体化学气相沉积（MPCVD）系统,在单晶硅基底上,以三聚氰胺为氮源实现纳米金刚石（NCD）薄膜N原子掺杂,并通过控制反应气体的......
通过采用二步浸蚀法对硬质合金(WC-12%Co)刀具进行预处理,应用微波等离子化学气相沉积装置,在经二步浸蚀法预处理过的硬质合金上沉......
采用微波等离子化学气相沉积系统（MPCVD）在镀钛的单晶硅衬底上制备纳米金刚石薄膜。反应气体为CH4和H2,其流量比为1∶1,微波功率为1 ......
通过采用二步浸蚀法对硬质合金(WC-Co12%)刀具进行预处理,应用微波等离子化学气相沉积装置,在经二步浸蚀法预处理过的硬质合金上沉......
本文主要介绍了用微波等离子体化学气相沉积法(以下简称MP CVD法)以甲醇-氢气混合气和丙酮-氢气混合气为源气体,分别以单晶硅的(11......
化学气相沉积（CVD）金刚石薄膜具有优异的力、热、声、光、电性能,在众多高新技术领域都具有广泛的应用前景。微波等离子体化学气相沉......
