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管式PECVD法沉积的SiyNx/SiOxNy叠层膜的研究
本文对采用管式等离子体增强化学气相沉积(PECVD)法沉积的氮化硅与氮氧化硅(SiyNx/SiOxNy)叠层膜进行了实验研究,结果表明:在硅片......
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