无掩膜光刻技术相关论文
基于深紫外浸没式曝光技术的大规模集成电路制造已接近10 nm特征尺寸。由于工艺复杂、设备昂贵且需要昂贵的光学掩膜版,浸没式曝光......
亲疏水图案化表面在表面张力限制的微流控技术中能够发挥显著作用。常见的方法在制作表面的微图案时都需要实物掩模版,这类方法不......
